真空旋转涂膜机

真空旋转涂膜机

是一款专为实验室设计的薄膜制备设备，广泛应用于大专院校、科研院所的胶体或溶液涂覆工艺。以下为详细介绍：

一、核心功能与特点

1. 薄膜均匀涂覆
   通过高速旋转（500-8000rpm）使粘滞性较高的胶体、溶液等材料均匀分布在样品表面，适用于半导体、晶体、制版等精密涂覆场景

2. 真空吸附固定
   采用真空吸盘（标配Ø25mm、Ø50mm、Ø100mm聚丙烯吸盘）固定样品，操作简便且稳定性高，减少偏心导致的震动或飞片问题

3. 双段程序控制
   支持两段速度控制：第一段低速注胶，第二段高速匀胶，提升涂层均匀性；时间设置范围为1-60秒

4. 耐腐蚀与低噪音设计

• 铸铝机身结构稳定，运行噪音低

• 可选聚四氟乙烯或铝合金吸盘，适配强酸/碱性溶液环境

二、技术参数

• 电源要求：AC220V 50Hz，功率148-150W，需良好接地

• 转速范围：500-8000rpm（精度±1%）

• 真空泵流速：≥60L/min（标配无油真空泵，环保易维护）

• 环境条件

• 海拔≤1000m，温度5-40℃，湿度≤85%RH

• 工作台需承重50kg以上，尺寸600×600×700m

三、设备结构与配件

1. 标准配置

• 真空吸盘（3种尺寸）、滴液器、无油真空泵、橡胶管等

2. 可选配件

• 微型吸盘、过滤器、移液器（进口/国产）、特殊材质吸盘（如聚四氟乙烯）

3. 尺寸与重量

• 主机尺寸400×300×200mm，重量20kg

四、典型应用场景

• 科研领域：半导体薄膜、光学镀膜、电池电极涂覆等

• 教学实验：材料科学、化学实验室的薄膜生成与均匀性研究

五、操作与维护

• 安全性：具备开盖保护功能，运行中开盖即自动减速停机

• 维护建议：定期清洁吸盘与腔体，检查真空泵过滤装置

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真空旋转涂膜机