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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

  • 产品型号:
  • 产品时间:2020-08-14
  • 简要描述:VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪 可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
  • 产品简介

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

1、引言

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

配置两个靶枪,一个为配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个为配套直流电源用于导电类材料的溅射镀膜;可制备多种薄膜,应用广泛;体积小,操作简便。

2、主要技术指标

电源:220V 50Hz

最大功率:<560W(不含真空泵)

极限真空度:< E-6mbar(配合本公司设备使用可达到E-5mbar)

工作温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)

靶枪数量:2个(可选配其他数量)

靶枪冷却方式:水冷

靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

直流溅射功率:500W(可选)

射频溅射功率:300W/500W(可选)

载样台:Ø140mm

载样台转速:1rpm-20rpm内可调

保护气体:Ar、N2等惰性气体

进气气路:质量流量计控制2路进气,每个流量为100SCCM

尺寸:500mm×560mm×660mm

整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm

重量:160kg

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

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