VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

1、引言

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是新研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

配置两个靶枪，一个为配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个为配套直流电源用于导电类材料的溅射镀膜;可制备多种薄膜，应用广泛;体积小，操作简便。

2、主要技术指标

电源：220V 50Hz

大功率：<560W（不含真空泵）

极限真空度：< E-6mbar（配合本公司设备使用可达到E-5mbar）

工作温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度）

靶枪数量：2个（可选配其他数量）

靶枪冷却方式：水冷

靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）

直流溅射功率：500W（可选）

射频溅射功率：300W/500W（可选）

载样台：Ø140mm

载样台转速：1rpm-20rpm内可调

保护气体：Ar、N2等惰性气体

进气气路：质量流量计控制2路进气，每个流量为100SCCM

尺寸：500mm×560mm×660mm

整机尺寸：1300mm×660mm×1200mm

重量：160kg

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

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