产品目录/ PRODUCT MENU

上海金相宇舟牌GPM-2-300双盘光谱磨平机

产品型号：
产品时间：2024-01-09
简要描述：上海金相宇舟牌GPM-2-300双盘光谱磨平机适用于光谱研究的试样磨平。
1. 无级调速控制
2. 下方配有吸尘装置，可吸走磨削物
3. 安全锁扣，1/4磨面，保护操作员

产品咨询在线客服

产品简介

上海金相宇舟牌GPM-2-300双盘光谱磨平机

1. 无级调速控制

2. 下方配有吸尘装置，可吸走磨削物

3. 安全锁扣，1/4磨面，保护操作员

适用于光谱研究的试样磨平。

　　在金相试样制备和光谱分析应用中，试样的磨平是金相制样和光谱分析前*的重要工序。GPM-2-300型光谱磨平机整机采用喷塑工艺制作，双盘独立控制，磨盘无级调速，*罩壳设计可有效保障磨样安全，机箱内装有吸尘装置可避免环境污染，该机启动平稳、传动功率大、噪音低，可满足不同材料的制备要求，提高试样的磨抛质量和制备效率，是一种非常理想和功能完善的金相制样制备。

型号	GMP-2-300
磨盘直径	300mm
砂纸直径	300mm
转速	无级调速100~1400r/min 或四档速300, 600, 900, 1400 r/min
转向	顺时针或逆时针
电机功率	550W
显示及操作	数码管显示，薄膜按键操作，带吸尘装置
输入电源	单相220V, 50Hz, 10A
外形尺寸	820×440×940mm
净重	122kg